王占杰
王占杰
王占杰,男,汉族,1962年生人。中国科学院金属研究所研究员,博士生导师,创新课题组长,中国科学院“百人计划”入选者(引进海外杰出人才),长期从事铁电、介电、压电和导电等功能薄膜材料的制备与评价方面的研究工作。
个人简介
1983年毕业于沈阳工业大学金属材料科学与工程系,1988年在沈阳工业大学获硕士学位,1993年10月赴日本东京大学留学,1997年3月获工学博士学位。
1997年7月至1998年1月以博士后身份在东北大学从事晶界工程学及其在提高多晶硅电学性能中的应用等方面的研究工作。1998年2月到日本国家产业技术综合研究所工作,主要从事铁电氧化物薄膜的制备、评价及其在微机电系统中的应用方面的研究。2000年6月转职到日本东北大学,先后作为讲师、副教授在日本东北大学材料系从事教学、科研工作;在此期间,主要从事铁电、介电、压电、导电等功能薄膜材料的制备与评价方面的研究工作,作为项目负责人承担了多项由日本学术振兴会和池谷科学技术振兴财团等资助的基础研究课题。2007年底入选中国科学院“百人计划”到中国科学院金属研究所工作。
自2008年回国承担“百人计划”项目以来,继续从事铁电、介电、导电和磁性等功能薄膜材料的制备与评价方面的研究工作。
科研领域
主要研究方向包括:1)微波加热在功能薄膜材料制备中的应用;2)铁电、介电和导电等氧化物薄膜的微结构与性能;3)新型纳米复合薄膜材料的制备与评价;4)化学溶液沉积、激光脉冲沉积和磁控溅射沉积等方法的薄膜功能材料的制备。
学术成果
利用微波加热实现了Pb(ZrTi)臭氧铁电薄膜的低温制备;揭示了在微波加热铁电薄膜的过程中存在有微波的非热效应;阐明了多层膜结构材料在微波场中的加热机制;研发了一种新型的Au-LaNiO3纳米复合导电薄膜材料。在Appl. Phys. Lett.、J. Phys. D: Appl. Phys.、J. Am. Ceram Soc.等国际期刊杂志上发表论文50多篇,SCI引用上百余次。以第一发明人申请中国发明专利2项。
参考资料

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