二硅化（
钼 Disilicide）是一种钼的硅化合物，也称为硅化钼，分子式为MoSi2 ，分子量为154.13。
由于两种原子的半径相差不大，
电负性比较接近，所以其具有近似于金属与陶瓷的性质。
熔点高达2030℃，具有导电性，在高温下表面能形成
二氧化硅钝化层以阻止进一步氧化，其外观为灰色金属色泽，源于其四方α-型
晶体结构，也存在六角形但不稳定的β-改性晶体结构。不溶于大部分酸，但可溶于
硝酸和
氢氟酸。
二硅化钼作为结构材料是在50年代初首次提出的，但直到70年代，随着脆性材料作为结构材料这一概念的出现，才被重视。80年代发生了飞跃性的进展，其研究工作，在世界范围内广泛开展起来。
MoSi是Mo-Si二元合金系中含硅量最高的一种中间相，是成分固定的
约翰·道尔顿型金属间化合物。具有金属与陶瓷的双重特性，是一种性能优异的高温材料。很好的高温抗氧化性，抗氧化温度高达1600℃以上，与
碳化硅相当；有适中的密度（6.24g/cm）；较低的热膨胀系数（8.1×10K）；良好的电热传导性；较高的脆韧转变温度（1000℃）以下有陶瓷般的硬脆性。在1000℃以上呈金属般的软塑性。MoSi主要应用作发热元件、
集成电路、高温抗氧化涂层及高温结构材料。
在MoSi中钼与硅之间以
金属键结合，硅和硅之间则以
共价键连结，二硅化钼为灰色四方
晶体。不溶于一般的矿物酸（包括
王水），但溶于
硝酸和
氢氟酸的
混合酸中，具有良好的高温抗氧化能力，可用作高温（\u003c1700℃）氧化气氛中工作的发热元件。
在氧化气氛中，高温燃烧致密的石英玻璃（SiO）的表面上形成保护膜层，以防止二硅化钼连续氧化。当加热元件的温度是高于1700℃，形成SiO保护膜，在
熔点为1710℃下稠合，和SiO融合成熔融滴。由于其表面延伸的动作，因此失去其保护能力。在
氧化剂作用下，当元素被连续地使用，再次形成保护膜的形式。应当提示的是由于在低温度的强氧化作用，该元素不能长时间被用于400-700℃温度环境下。
二硅化钼的应用于高温抗氧化涂层材料、电加热元件、集成电极薄膜、结构材料、
复合材料的增强剂、
耐磨材料、结构陶瓷的连接材料等领域，分布在以下几个行业：
1）能源
化学工业：电加热元件、原子反应堆装置的高温热交换器、气体燃烧器、高温热电偶及其保护管、熔炼器皿埚（用于熔炼钠、锂、铅、铋、锡等金属）。
2）微电子工业：MoSi与其他一些难熔金属硅化物TiSi、WSi、TaSi等是大规模
集成电路栅极及互连线薄膜重要的候选材料。