溅射对于远程有弹道英雄就像分裂斩对于近战英雄，它和分裂斩有相似也有不同的地方。最大的不同在于AoE在弹道击到的目标处决定，而不是分裂斩由攻击者站立的地方确定。目前版本有一个英雄、一种召唤单位和一种野怪有这种攻击类型。他们是：龙骑士（2、3级变身为龙后）、暗影萨满的蛇帐和黑龙。

和分裂斩不同的是物品中不存在这个技能，因为他需要单位有一种特殊的武器类型，在DotA中这个是Missile （Splash），这也意味着我们不会看见一个近战英雄拥有这个硬编程（hardcoded）的溅射技能。当然我们可以把一个远程的射程设为100（普通近战英雄的射程），这样看起来就像是个近战英雄了。（就像很早以前的熊战士）

幻象单位可以和正常单位一样溅射。

当攻击盟友单位的时候也会溅射。

溅射的AoE

溅射的AoE是一个圆心位于弹道击中被攻击目标位置的圆。

dota中所有的溅射伤害都根据距离圆心的大小，分有3个等级，从中心到边缘递减，也就是说范围是三个同心圆。下面是配上图片说明DotA里具体的数据和范围：

100% 伤害 50 AoE.

50% 伤害 150 AoE.

25% 伤害 250 AoE.

龙骑士（2、3级变龙）

100% 伤害 75 AOE.

75% 伤害 150 AOE.

50% 伤害 250 AOE.

暗影萨满的大蛇守卫（A帐对这些数据没影响）

等级1： 100% 伤害 50 AOE, 40% 伤害 75 AOE， 20% 伤害150 AOE.

等级2： 100% 伤害 75 AOE, 40% 伤害 100 AOE， 20% 伤害 200 AOE.

等级3： 100% 伤害 85 AOE, 40% 伤害 110 AOE， 20% 伤害 220 AOE.

攻击伤害的信息

溅射的攻击类型和该单位的攻击类型一样，(伤害类型是普通伤害，)溅射部分和通常的攻击是相同的，这意味着所有的单位护甲数值、护甲类型和伤害阻挡技能(例如先锋盾、圆盾、海妖外壳)都会在计算伤害结果的时候分别考虑进去。

因为分别计算溅射范围内各自单位的伤害减少，这就是说对主单位的伤害结果对于其他溅射目标来说不重要，下面是一个例子：

假设主目标：0%护甲数值减少，0%护甲类型减少，没有伤害阻挡

边上的目标：50%护甲数值减少，50%护甲类型减少，没有伤害阻挡

那么当你对主目标输出100伤害并且100%溅射的时候，结果是主目标接受全部的100点伤害因为衰减为0，边上的目标只会接受25点伤害因为经过护甲总衰减后为（100*0.5*0.5=25）。同样的，一个边上的目标事实上可以接受比主目标更多的伤害，如果主目标的护甲衰减相比边上目标的护甲衰减乘以受到溅射百分比更高。

溅射攻击丢失的情况

带溅射的一次攻击不会真正完全丢失，(虽然冒出韩懿莹红字但是还是可以有伤害)，不过伤害数值要经过一个叫MissDamageCtant的游戏常数的衰减。这个常数设置为0.5，意味着丢失的这次带溅射的攻击将会比初始数值减少50%的伤害。

所以对于溅射部分，如果带溅射的一次攻击丢失了，那么就按如下计算：

丢失攻击的溅射数值 = 溅射数值 * MissDamageCtant

这个很简单的式子意味着这次丢失的攻击总共取得了50%效果。对于一个被溅射的目标，如果你之前溅射了70%，这次只相当于溅射了37.5%

对于丢失的攻击造成伤害计算总体式子如下：

被溅射单位接受伤害数值 = 攻击者给出伤害数值 * 溅射百分比 * 伤害护甲减少 * MissDamageCtant

注意这次攻击虽然对主目标丢失了，但主目标被当作溅射单位，受到前面说的丢失攻击的溅射的伤害。

另一件不同的地方是，如果一次带溅射的攻击丢失了，溅射的范围圆心是在该次攻击弹道预计着落的地点，而不是通常的目标单位的地点。（意思是如果攻击出手就冒出miss红字，弹道不会跟随目标单位的移动，预计着落地点也就是弹道到达之后的溅射中心是在出手时刻目标单位的地点而不是弹道到达后的目标单位的地点）

dota中溅射的应用

狂战斧

价格:4350

配件：阔剑+大剑+坚韧球

卷轴价格：免费

额外增加:65点攻击力,35%分裂伤害（粉碎伤害，无视物免魔免） ，150%魔法回复速度，6点每秒生命回复速度。

分裂伤害叠加方法：每把狂战斧的分裂效果都互不影响。直接叠加。

由几率暴击带来的伤害增加对分裂有效。疾风步破隐一击，各种重击等尚未测定。

例：船长攻击力400，有水刀，猛犸给了授予力量，自己有两把狂战斧。他直接攻击的目标受到400点（英雄攻击，普通伤害）；在水刀范围内的单位受到400点（粉碎伤害，无视物免魔免），在狂战斧范围内的单位受到140*2点（粉碎伤害，无视物免魔免），在授予力量范围内的单位受到180点（粉碎伤害，无视物免魔免）。除了主攻目标不受任何溅射伤害外，其他目标受到各种溅射伤害都直接叠加。假如这个船长还拿着大炮并且恰好出了暴击，所有的溅射伤害都享受暴击效果。

狂战斧的溅射效果是可以叠加的，6把相当于2.1倍的溅射效果，当你在打对面的法师的时候，其他人受到其攻击2.1倍的伤害，那是多么恐怖的一件事情啊

PVD薄膜制备技术：溅射

溅射（sputtering）是PVD薄膜制备技术的一种，主要分为四大类：直流溅射、交流溅射、反应溅射和磁控溅射。原理如图：

原理：用带电粒子轰击靶材，加速的离子轰击固体表面时，发生表面原子碰撞并发生能量和动量的转移，使靶材原子从表面逸出并淀积在衬底材料上的过程。以荷能粒子(常用气体正离子)轰击某种材料的靶面，而使靶材表面的原子或分子从中逸出的现象，同时由于溅射过程含有动量的转换，所以溅射出的粒子是有方向性的。

用途：利用它可使他种基体材料表面获得金属、合金或电介质薄膜。适用于制造薄膜集成电路、片式引线器件和半导体器件等用。

方法：溅射薄膜通常是在惰性气体(如)的等离子体中制取。

特点：采用溅射工艺具有基体温度低，薄膜质纯，组织均匀密实，牢固性和重现性好等优点。

溅射镀膜技术的应用

1. 制备薄膜磁头的耐磨损氧化膜

硬盘磁头进行读写操作时与硬盘表面产生滑动摩擦，为了减小摩擦力及提高磁头寿命，目前磁头正向薄膜化方向发展。

绝缘膜和保护膜(即AL 2 O 3 、SiO 2 氧化物薄膜)是薄膜磁头主要构成成份。对薄膜磁头的耐磨损膜的要求是耐冲击性好，耐磨性好，有适当的可加工性以及加工变形小，通常采用反应溅射法制备该种薄膜。为了防止基片升温过高，溅射镀膜过程中要对基片进行冷却。

2. 制备硬质薄膜

目前广泛使用的硬化膜是水溶液电镀铬。电镀会使钢发生氢脆，而且电镀速度慢，造成环境污染。如果采用金属Cr靶，在N 2 气氛中进行非平衡磁控溅射镀膜，可以在工件上镀覆Cr、CrN X 等镀层，代替水溶液电镀用于旋转轴和其它运动部件。

3. 制备切削刀具和模具的超硬膜

采用普通化学气相沉积技术制备TiN、TiC等超硬镀层，温度要在1000 ℃ 左右，这已经超过了高速钢的回火温度，对于硬质合金来说还可能使镀层晶粒长大。而采用对向靶溅射沉积单相TiN薄膜，溅射时间只需10～15min，基片温度不超过150 ℃，得到的 TiN薄膜硬度最高可达HV3800。利用非平衡磁控溅射法制备的TiN镀膜，通过膜层硬度和临界载荷实验以及摩擦实验，表明膜层硬度已经达到和超过其它离子镀膜的效果。

4. 制备固体润滑膜

固体润滑膜如MoS 2 薄膜已成功应用于真空工业设备、原子能设备以及航空航天领域，对于工作在高温环境的机械设备也是毕不可少的。虽然MoS 2 可用化学反应镀膜法制备，但溅射镀膜发得到的MoS 2 薄膜致密性好，膜基附着力大，添加Au(5wt%)的MoS 2 膜，其致密性和附着性更好，摩擦系数更小。

5. 制备光学薄膜

溅射法是目前工业生成中制备光学薄膜的一种主要的工艺。长期以来，反应磁控溅射技术主要用于工具表面镀制TiN 等超硬膜以及建筑玻璃、汽车玻璃、透明导电膜等单层或简单膜层。近年来，光通信，显示技术等方面对光学薄膜的巨大需求，刺激了将该技术用于光学薄膜工业化 生产的研究。